台灣電漿蝕刻機 - 台灣產業戰略地圖

L4 C2611

台灣電漿蝕刻機

代碼: L4-1101-004-001 政府分類: 半導體製造業

ICP電漿蝕刻機，6吋晶圓。13.56MHz RF、蝕刻速率500nm/min、均勻性±3%、終點偵測、真空<1×10⁻⁶。

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專案代號：SkyNet | 版本：3.0 | 最後更新：2026-01-12