使用光罩與光阻將電路圖形轉移到晶圓上的關鍵製程
國際品質管理系統標準，適用於所有製造業
台灣勞動基準法
台灣環境保護法規
台灣職業安全衛生法規
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365nm i線光刻步進機，8吋晶圓。解析度350nm、成熟製程、高良率。適合MEMS、功率IC、類比IC製造。
全自動光阻塗佈機，12吋晶圓。旋塗3000rpm、厚度均勻性±2%、EBR邊緣去除、軟烤90°C、產能120片/h。