L4
C2740
磁控濺射鍍膜系統
台灣薄膜科技MSD-800V磁控濺射鍍膜系統，提供高均勻度、高附著力的薄膜沉積。適用於金屬、介電質及合金材料的沉積，具備多靶位與共濺射能力，是感測器電極、敏感層及保護層製備的理想設備。
台灣薄膜科技MSD-800V磁控濺射鍍膜系統，提供高均勻度、高附著力的薄膜沉積。適用於金屬、介電質及合金材料的沉積，具備多靶位與共濺射能力，是感測器電極、敏感層及保護層製備的理想設備。