台灣產業戰略地圖

化學氣相沉積系統 (CVD)

代碼: L4-1204-001-003 政府分類: 量測、導航及控制設備製造業

台灣新材料CVD-P200化學氣相沉積系統，提供高質量、低應力的介電層和半導體薄膜沉積。其精確的溫度和氣流控制確保了製程的穩定性和膜層的均勻性，廣泛應用於感測器的絕緣、鈍化和犧牲層製備。

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專案代號：SkyNet | 版本：3.0 | 最後更新：2026-01-12

化學氣相沉積系統 (CVD)