L4
C2740
高解析度光罩對準曝光機
台灣微影精準MLA-3000高解析度光罩對準曝光機，提供亞微米級別的圖案轉移能力。具備精密的晶圓與光罩對準系統及均勻的曝光能量控制，確保感測器微結構的精確複製，是高性能感測器製造不可或缺的設備。
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⚠️ 以上資訊僅供參考，不構成推薦、背書或排名
台灣微影精準MLA-3000高解析度光罩對準曝光機，提供亞微米級別的圖案轉移能力。具備精密的晶圓與光罩對準系統及均勻的曝光能量控制，確保感測器微結構的精確複製，是高性能感測器製造不可或缺的設備。
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